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经营范围
发明名称
PERIPHERY EXPOSURE DEVICE FOR WAFER
摘要
申请公布号
JPH0380528(A)
申请公布日期
1991.04.05
申请号
JP19890215947
申请日期
1989.08.24
申请人
FUJITSU LTD
发明人
SHIMANE KAZUO
分类号
H01L21/30;G03F7/20;H01L21/027
主分类号
H01L21/30
代理机构
代理人
主权项
地址
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