| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR SPUTTERING FILM FORMATION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR910001879(B1) |
申请公布日期 |
1991.03.28 |
| 申请号 |
KR19870015286 |
申请日期 |
1987.12.30 |
| 申请人 |
HITACHI LTD. |
发明人 |
DATEICHI HIDEGI;SAIDOU HIROSI;SASAGI SINJI;HORIUJI MAZEUAKI |
| 分类号 |
C23C14/35;H01J37/32;H01J37/34;(IPC1-7):H01L49/02 |
主分类号 |
C23C14/35 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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