发明名称 VERFAHREN ZUR X:1-ABBILDUNG VON MASKENSTRUKTUREN
摘要
申请公布号 DD288271(A5) 申请公布日期 1991.03.21
申请号 DD19850280625 申请日期 1985.09.16
申请人 VEB ZFT MIKROELEKTRONIK,DD 发明人 KALZ,ANDREAS,DD;HAASE,NORBERT,DE
分类号 G03F7/26;H01L21/26;H01L21/32;(IPC1-7):H01L21/26 主分类号 G03F7/26
代理机构 代理人
主权项
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