PLASMA DEPOSITION OF SUPERCONDUCTING THICK FILMS

摘要

Un procédé permet d'appliquer un revêtement d'un oxyde céramique supraconducteur sur un substrat, et consiste à introduire une solution aqueuse atomisée comprenant au moins trois sels métalliques dans un plasma couplé de manière inductive pour déposer un oxyde de métal mixte sur le substrat, qui est converti en un oxyde céramique supraconducteur par recuit ultérieur.