首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 REACTOR FOR REACTIVE ION ETCHING, AND ETCHING PROCESS
摘要
申请公布号 EP0090067(B2) 申请公布日期 1991.03.20
申请号 EP19820102719 申请日期 1982.03.31
申请人 IBM DEUTSCHLAND GMBH;INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 BRANDEIS, CHRISTINE, ING. GRAD.;KEMPF, JUERGEN, DR., DIPL.-PHYS.;KRAUS, GEORG;KUENZEL, ULRICH, DR., DIPL.-CHEM.
分类号 C23F4/00;H01J37/32;H01J37/34;H01L21/00;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/673;(IPC1-7):C23F4/00 主分类号 C23F4/00
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com