发明名称 Positive type photosensitive resinous composition with 1,2 quinone diazide sulfonyl unit
摘要
申请公布号 US4999274(A) 申请公布日期 1991.03.12
申请号 US19880255193 申请日期 1988.10.27
申请人 NIPPON PAINT CO., LTD. 发明人 SEIO, MAMORU;NISHIJIMA, KANJI;ISHIKAWA, KATSUKIYO
分类号 G03C1/72;C08G59/14;C08G59/42;C08G59/62;G03F7/023 主分类号 G03C1/72
代理机构 代理人
主权项
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