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1﹒一种含经由阴极而通过电流的步骤,一电镀池和一阳极相对于阴极的电位高到足以电镀钯的方法,所述的方法是用来在表面上镀上一层金属物质,而所述的金属物质含有钯,所述电镀池的导电性每公分大于10^─3姆欧并且含有钯的来源,电镀内还含有丑@@种表面剂和一种明亮剂,所述的表面剂从含烷基氯化胺中选出﹛@A而含烷基氯化胺须有4至35个碳原子,而所述的明亮剂从下式@C族群中选出,含0一苯甲醛酸,1一酸,2一酸,迭@f磺酸,含氧一4,4一苯磺酸,对甲苯磺酸,3一三氟甲烷乙遄@限f磺酸,丙烯苯,苯甲胺基磺,苯甲基丙磺,苯乙醛磺,╮@略@(苯乙)丙磺,苯胺,(苯乙)甲烷,胺肌碳酸盐,薄@D醯胺胍和菸硷酸。2﹒依据申请专利范围第1项之方法,其中,表面剂为一种脂肪族的直链二甲胺氯,其链长度介于8和18碳原子之间。3﹒依据申请专利范围第2项之方法,其中,表面剂为从下列族群中选出,包括十一烷基二甲胺氯,十二烷基二甲胺氯和十三烷基三甲胺氯。4﹒依据申请专利范围第3项之方法,其中,表面剂为十二烷基三甲胺氯。5﹒依据申请专利范围第1项之方法,其中,表面剂的浓度范围为从0﹒0002至0﹒4莫耳。6﹒依据申请专利范围第1项之方法,其中,明亮剂从下列族群中选出,包括苯亚磺酸,3一三氟甲烷乙酯苯磺酸和丙烯苯。7﹒依据申请专利范围第6项之方法,其中,明亮剂为丙烯苯。8﹒依据申请专利范围第7项之方法,其中,表面剂为十二烷基三甲胺氯。9﹒依据申请专利范围第1项之方法,其中,钯的来源所含的钯混合物从下列族群中选出,包含PdCl2,PdBr2,Pdl2,PdSO4以及Pd(NO3)2。10﹒依据申请专利范围第1项之方法,其中,钯的来源为一种钯化合离子混合物。11﹒依据申请专利范围第1项之方法,其中,把的来源为一种钯化合离子混合物,而其中的化合作丙为胺。12﹒依据申请专利范围第1项之方法,其中,电镀池的pH値为介于6﹒0和13﹒5之间。13﹒依据申请专利范围第12项之方法,其中,pH値为介于6﹒5和8﹒5之间。14﹒依据申请专利范围第1项之方法,其中,电镀池含有一种导电盐类。15﹒依据申请专利范围第14项之方法,其中,导电的盐类含氯化胺。16﹒依据申请专利范围第1项之方法,其中,电镀池含有一种缓冲剂。17﹒依据申请专利范围第16项之方法,其中,缓冲剂为一种磷酸缓冲剂。18﹒一种经由申请专利范围第1项之方法所制得的物品。19﹒依据申请专利范围第18项之物品,其中,物品含有一种电子接触表面。20﹒依据申请专利范围第19项之物品,其中,物品含有一种电子接头。图示简单说明图1说明一种用在电镀钯和钯合金上的典型装置,此装置和本发明一致,和图2说明一种用把电镀的连接脚,此连接脚和本发明一致。 |
