| 主权项 |
1﹒一种改良的陶瓷组成物,主要包括一烧结安定化的陶瓷合金,其组成乃选自:(a)组成A主要的包含一烧结陶瓷合金,其主要成份为:35至94﹒75mloe%的二氧化锆,5至45mole%的二氧化钛,以及0﹒25至10mloe%选自含Gd2O3,Yb2O3,Nd2O3,Tb2O3,Pr2O3,Dy2O3,Ho2o3,Sm2O3与Er2O3,的稀土属氧化物,(b)组成B主要的包含一烧结陶瓷合金,其主成份为:48至94﹒75mloe%的二氧化锆,5至45mole%的二氧化钛,以及0﹒25至7mloe%的氧化铝,以及(c)组成C主要的包含一烧结陶瓷合金,其主成份为:35至93﹒5mloE%的二氧化锆,5至45molE%的二氧化钛,以及1﹒5至20mloe%的氧化铈者。2﹒如申请专利范围第1项所述之陶瓷组成物,其中所选之组成为组成A者。3﹒如申请专利范围第1项所述之陶瓷组成物,其中所选之组成为组成B者。4﹒如申请专利范围第1项所述之陶瓷组成物,其中所选之组成为组成C者。5﹒如申请专利范围第1项所述之陶瓷组成物,其中细小晶粒之大小为小于4微米者。6﹒如申请专利范围第2项所述之陶瓷组成物,主要的含有0﹒5至4﹒0mole%选自包含Gd2O3,Yb2O3,Nd2O3,Tb2O3,Pr2O3,Dy2O3,Ho2O3,Pr2O3,Sm2O3,Tb2O3与Er2O3,的稀土属氧化物者。7﹒如申请专利范围第3项所述之陶瓷组成物,主要的含有0﹒5至4﹒0mole%的氧化钇者。8﹒如申请专利范围第4项所述之陶瓷组成物,主要的含有1﹒5至16mole%的氧化铈者。9﹒如申请再利范围第2项所述之陶瓷组成物,主要的含有0﹒5至3﹒0mole%选自包含Gd2O3,Yb2O3,Nd2O3,Pr2O3,Tb2O3,Ho2O3,Sm2O3,Dy2O3与Er2O3之稀土属氧化物者。10﹒如申请专利范围第3项所述之陶瓷组成物,主要的含有0﹒5至3﹒0mole%之氧化钇者。11﹒如申请专利范围第4项所述之陶瓷组成物,主要的含有1﹒5至8mole光之氧化铈者。12﹒如申请专利范围第1项所述之陶瓷组成物,主要的含有22至45mole%之二氧化钛者。13﹒如申请专利范围第1项所述之陶瓷组成物,主要的含有2﹒5至40mole%之二氧化钛者。14﹒如申请专利范围第1项所述之陶瓷组成物,主要的含有51至77﹒5mole%之二氧化锆者。15﹒如申请专利范围第4项所述之陶瓷组成物,主要的含有39至76﹒5mole%之二氧化锆者。16﹒一种陶瓷体,主要的含有至少5vol%如申请专利范围第1项所述之陶瓷合金,余者则为选自含有矾土、矾土,"纂@s土、Al2O3─Cr2O3固体溶液,富丽红柱石、Si╮@憸穮驒騿BMasicon、碳化矽、氮化矽、尖晶石、碳化陧@g、二硼化汰、锆英石与碳化锆之硬性耐火陶瓷者。17﹒一种陶瓷组成体,主要的含有80vol%的耐火陶瓷纤维及/或选自含有三氧化二铝、富丽红柱石、sialon、碳化矽、氮化矽、氧化铝、氮化硼、碳化硼、锆英石、氧碳化矽与尖晶石之晶须以及至少5vol%如申请专利范围第1项所述之陶瓷合金者。18﹒如申请专利范围第16项所述之陶瓷体,含有最高达80%的纤维者。19﹒如申请专利范围第16项所述之陶瓷体,含有最高达80%的晶须者。20﹒如申请专利范围第1项所述之陶瓷组成物,其中所存在的晶相主要的为四方晶或单斜晶或其二者的综合者。 |
