| 主权项 |
1﹒于一制造厚一膜电元件之方法中,其系藉制备一适用于一陶瓷基材之糊,藉一传统屏幕印刷技术将该糊施用于该基材上,乾燥该被印刷之基材及于一以具有波长大于4,000但小于100,000埃之放射能源加热之炉中燃烧该基材乃糊以形成该电元件,其中改良之处包含:于维持在一温度介于850及1,000℃,惰气气氛下,其中加入100至3,000ppm水,之上述炉的热区中燃烧该糊及基材复合物。2﹒如上述申请专利范围第1项之方法,其中该放射能源具有一介于4,000及25,000埃间之波长。3﹒如上述申请专利范围第1项之方法,其中该放射能源具有一介于25,000及100,000埃间之波长。4﹒如上述申请专利范围第1项之方法,其中该水之添加系介于100及2,000ppm间,以体积为基准。5﹒如上述申请专利范围第1项之方法,其中该糊及陶瓷成分被置放于该炉之热区中之时间介于1至7分钟之间。6﹒如上述申请专利范围第1项之方法,其中该炉允许预热,于一热区中燃烧及冷却该糊与复合基材,且其中整体操作时间介于10及30分钟间。7﹒如上述申请专利范围第1项之方法,其中该惰气气氛为氮。8﹒如上述中动专利范围第1项之方法,其中该惰气气氛为氩。9﹒如上述申请专利范围第1项之方法,其中介于10及20,000pp一间之亚硝基氧化物被添加于该炉热区中之该惰气一水气氛中。10﹒如上述申请专利范围第1项之方法,其中该炉含有一预热区,其系维持在一惰气气氛下,该惰气气氛并添加有介于100及3,000PPm之水。 |
