| 摘要 |
<p>Système pour décaper les films supraconducteurs d'oxyde d'yttrium-barium-cuivre (YBa2Cu3O2). Le réactif d'attaque comprend un acide éthylènediaminetétraacétique à des concentrations variables dans l'eau ou dans un mélange d'eau et de glycérol. Le réactif décrit permet aux températures de transition à l'état supraconducteur de demeurer inchangées avec une précision expérimentale de 1 °K. En outre, les films n'ont pas besoin d'être réoxygénés après l'opération et ce réactif d'attaque convient au dessin à micro-points utilisant la photolithographie standard.</p> |
