发明名称 |
USE OF HEXATRIENE DERIVATIVES FOR THE MANUFACTURE OF PREPARATIONS FOR TREATING ACNE, PSORIASIS AND LIGHT-INDUCED DAMAGE TO THE SKIN. |
摘要 |
Emploi de dérivés d'hexatriène de formule (I), où R1 a la notation donnée dans la description, pour la fabrication de préparations pharmaceutiques et cosmétiques en vue de traiter l'acné, le psoriasis et d'autres infections dermatologiques s'accompagnant d'une kératinisation pathologique, et pour traiter des lésions dermiques iatrogéniques ou des lésions dermiques provoquées par l'action de la lumière ultraviolette, l'eczéma, les verrues, le vitiligo, les yeux secs et d'autres cornéopathies, ainsi que les précancéroses et les tumeurs, les affections rhumatismales et arthritiques. |
申请公布号 |
EP0413692(A1) |
申请公布日期 |
1991.02.27 |
申请号 |
EP19890902638 |
申请日期 |
1989.02.02 |
申请人 |
BASF AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
WUEST, HANS-HEINER;FRICKEL, FRITZ-FRIEDER;PAUST, JOACHIM;SCHMIEDER, KLAUS;NUERRENBACH, AXEL |
分类号 |
A61K31/075;A61K31/015;A61K31/07;A61K31/135;A61K31/165;A61K31/19;A61K31/215;A61K31/22;A61K31/275;A61K31/40;A61K31/42;A61K31/421;A61P17/00;A61P27/02;A61P29/00;A61P31/04;A61P35/00;C07C403/00;C07C403/06;C07C403/14;C07C403/18;C07C403/20;C07D257/04;C07D263/12;C07D295/02;C07D317/12 |
主分类号 |
A61K31/075 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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