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发明名称 MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 JPH0346344(A) 申请公布日期 1991.02.27
申请号 JP19890182004 申请日期 1989.07.14
申请人 NEC CORP 发明人 TOYOKAWA FUMITOSHI
分类号 H01L21/762;H01L21/76 主分类号 H01L21/762
代理机构 代理人
主权项
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