CLEANING METHOD FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND CLEANING APPARATUS USED THEREFOR,申请号JP19890181025-传众专利搜索

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发明名称	CLEANING METHOD FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND CLEANING APPARATUS USED THEREFOR
摘要
申请公布号	JPH0344927(A)	申请公布日期	1991.02.26
申请号	JP19890181025	申请日期	1989.07.12
申请人	MITSUBISHI ELECTRIC CORP	发明人	KANEDAKI YUKIMICHI;OMORI MASASHI
分类号	H01L21/304;B08B3/04	主分类号	H01L21/304
代理机构		代理人
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