首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
METHOD AND DEVICE FOR TREATING SEMICONDUCTOR WAFER
摘要
申请公布号
JPH0342828(A)
申请公布日期
1991.02.25
申请号
JP19890178422
申请日期
1989.07.11
申请人
MITSUBISHI ELECTRIC CORP
发明人
KOTO SATORU;TESHIGAHARA HITOSHI
分类号
H01L21/306;H01L21/304
主分类号
H01L21/306
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
风电齿轮箱的试验装置
一种基于电力载波的污水处理实时音频监测装置
按键式扳手夹持机构
手机成品检测装置
拆卸装置
数显式迈克尔逊干涉仪自动化测量系统
一种便于推料的按钮注塑模具
一种烟气换热器系统
一种气体检测装置
一种用于轮轨黏着特性试验的测试设备
一种不锈钢管环压装置
一种测量轴杆高度的千分尺
蒸发器制冷温度控制系统
双曲面烟囱帽
一种炭黑生产用原料油的取样器
一种标准光源对色观察箱的颜色检测结构
一种智能电化学气体传感器模块
蒸汽锅炉用沼气-天然气混合用气系统
一种喷枪驱动装置及应用喷枪驱动装置的湿式喷砂系统
换热器