| 发明名称 |
POSITIVE WORKING PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING A LIGHT-ABSORBING MATRIX IN A COLOR CRT STRUCTURE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR910000839(B1) |
申请公布日期 |
1991.02.11 |
| 申请号 |
KR19830001376 |
申请日期 |
1983.04.02 |
| 申请人 |
NORTH AMERICAN PHILIPS CORP. |
发明人 |
LAMBERT THOMAS L.;NAGEL JUDY A.;BERGAMO ROBERT L. |
| 分类号 |
G03C1/72;C08L29/00;C08L29/04;G03F7/039;H01J9/227;(IPC1-7):G03F7/004 |
主分类号 |
G03C1/72 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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