发明名称 |
Photosensitive composition. |
摘要 |
Lichtempfindliche Gemische aus einem Polymeren und einer photoaktiven Komponente, die wäßrig-alkalisch entwickelbar sind, zeigen dann ein gutes Ausbleichverhalten im DUV-Bereich, wobei die photoaktive Komponente gute Lösungsinhibitoreigenschaften aufweist und sich während des Trocknungsprozesses nicht verflüchtigt, wenn die photoaktive Komponente Diazotetronsäure oder ein Diazotetronsäurederivat folgender Struktur ist: <IMAGE> wobei die Reste R gleich oder verschieden sind und H, Alkyl, Cycloalkyl, Aryl oder einen siliciumhaltigen Rest bedeuten.
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申请公布号 |
EP0410256(A1) |
申请公布日期 |
1991.01.30 |
申请号 |
EP19900113581 |
申请日期 |
1990.07.16 |
申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
SEBALD, MICHAEL, DR.;BECK, JUERGEN;LEUSCHNER, RAINER, DR.;SEZI, RECAI, DR.;BESTMANN, HANS JUERGEN, PROF. DR. |
分类号 |
G03F7/039;G03F7/016;G03F7/075;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/039 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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