发明名称 Photosensitive composition.
摘要 Lichtempfindliche Gemische aus einem Polymeren und einer photoaktiven Komponente, die wäßrig-alkalisch entwickelbar sind, zeigen dann ein gutes Ausbleichverhalten im DUV-Bereich, wobei die photoaktive Komponente gute Lösungsinhibitoreigenschaften aufweist und sich während des Trocknungsprozesses nicht verflüchtigt, wenn die photoaktive Komponente Diazotetronsäure oder ein Diazotetronsäurederivat folgender Struktur ist: <IMAGE> wobei die Reste R gleich oder verschieden sind und H, Alkyl, Cycloalkyl, Aryl oder einen siliciumhaltigen Rest bedeuten.
申请公布号 EP0410256(A1) 申请公布日期 1991.01.30
申请号 EP19900113581 申请日期 1990.07.16
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 SEBALD, MICHAEL, DR.;BECK, JUERGEN;LEUSCHNER, RAINER, DR.;SEZI, RECAI, DR.;BESTMANN, HANS JUERGEN, PROF. DR.
分类号 G03F7/039;G03F7/016;G03F7/075;H01L21/027 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
主权项
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