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Die Erfindung betrifft neue Sulfoniumsalze der allgemeinen Formel (I) <IMAGE> worin A⊖ = nichtnucleophiles Gegenion, x = 1, 2 oder 3, R = Kohlenwasserstoffrest, R' = Arylen, substituiertes Arylen, <IMAGE> worin R¹, R² und R³ für Alkyl, für ein- oder mehrfach halogensubstituiertes Alkyl oder R¹ und R² für Wasserstoff oder Alkyl stehen, und R³ für Phenyl, Alkenyl oder Cycloalkenyl steht, oder R¹ für Wasserstoff steht, und R² und R³ zu einem ethylenisch ungesättigten Ring geschlossen sind, oder R¹ und R² für Wasserstoff, Alkyl, Cycloalkyl oder Aryl stehen, und R³ für Alkoxy steht oder R¹ für Wasserstoff oder Alkyl steht, R² und R³ für Alkoxy, Aryloxy oder substituiertes Aryloxy stehen. Diese Sulfoniumsalze eignen sich als Photoinitiatoren für die kationische Polymerisation und zur Herstellung von Reliefmustern und Reliefbildern.
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