发明名称 Plasma processing method and apparatus
摘要
申请公布号 US4987004(A) 申请公布日期 1991.01.22
申请号 US19900522129 申请日期 1990.05.11
申请人 SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. 发明人 YAMAZAKI, SHUNPEI;TSUCHIYA, MITSUNORI;KAWANO, ATSUSHI;IMATOU, SHINJI;NAKASHITA, KAZUHISA;HAMATANI, TOSHIJI;INUSHIMA, TAKASHI;ITOU, KENJI
分类号 C23C16/517;H01J37/32;H01J37/34 主分类号 C23C16/517
代理机构 代理人
主权项
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