发明名称 在具有辐射感测层之记录载体上记录资讯之装置
摘要 在一光学记录装置中一记录载体(4)被以强度调变之写入光束(13)扫描以于记录载体(4)上形成光可感测之符号(8)之资讯图案。用验证光束(14)之方式,它尾随写入光束(13)一固定距离,已记录了资讯在记录后立即可以读出。写入光束(13)及验证光束(14)系由同一辐射源(10)所产生,该源之强度根据待记录之资讯而调变,为了自验证光束(14)所得之在读出信号(V1)中消除调变之效应,由一除法电路(51)以信号(Vn)除该读出信号(V1)乃得由辐射源(10)所生辐射之瞬间强度。
申请公布号 TW150449 申请公布日期 1991.01.21
申请号 TW078110148 申请日期 1989.12.29
申请人 飞利浦电子股份有限公司 发明人 强汉娜.莱波德斯.拜克斯
分类号 G11B7/07 主分类号 G11B7/07
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1﹒一种记录资讯于包括一辐射感测记录层之记录载体上之装置,该装置包括将一个由辐射源产生之辐射写入光束导引至记录层之装具;实施该写入光束与记录载体间成相对运动之驱动装具;一个控制电路用以控制由辐射产生之辐射强度以符合待记录之资讯,因而形成可以代表资讯可光测符号的资讯图案;一装具用以导引较写入光束强度为小之验证光束至记录层,其方式为使验证光束跟随写入光束之后,并由该写入光束所形成之资讯图案加以调变;侦感装具用以将调变后之验证光束转换为对应之读出信号;其特征为其中之写入光束及验证光束之辐射系产自同一辐射源,此装置尚包括一电路以产生一改正信号,代表由辐射源产生之瞬时辐射强度,以及一改正电路,自改正信号及读出信号中导经改正的读出信号,代表读出信号除以由辐射源产生之瞬时辐射强度。2﹒根据申请专利范围第1项所述之装置,其中该装置包括一分析电路,用以自改正后读出信号中导出一分析信号,此信号代表由验证光束所扫描之资讯图案偏离最佳情况之程度,及一适应电路,用以依照分析信号适应辐射源控制。3﹒根据申请专利范围第2项所述之装置,其中之分析电路包括第一比较器,用以将经改正之读出信号及第一参考信号加以比较,及一积体电路以积分方式自比较器之输出信号导出第一参考信号,该输出信号代表第一参考信号及经改正之读出信号之差;一电路用以导出第二参考信号,其具有之信号位准介于该经改正之读出信号之最小及最大信号之间;第二比较器,供将第一及第二参考信号加以比较以产生一分析信号,此信号代表二个参考信号之差。4﹒根据申请专利范围第2或3项所述之装置,其中该适应电路包括一种装置,用以适应由辐射源所生之调变辐射之强度。5﹒根据申请专利范围第1,2或3项所述之装置用以在记录载体上之伺服磁道中记录资料者,其中为了导出一个代表在记录层上写入光束着陆点之中央与伺服磁道之中心间的偏差的追踪误差信号,该装置包括一装具用以将二个由辐射源所生的卫星光束导至记录层上,卫星光束中之一光束在写入光束之前一固定距离,另一卫星光束则在写入光束后一固定距离,可使其写入光束如以伺服磁道为中心,则每一卫星光束则入射于伺服磁道之两个边缘之一上,此装置系运用后缘卫星光束作为验证光束。图示简单说明图1系以图解方式显示光学记录装置图2显示一光学记录头之细部,图3显示使用于记录头中之半导体雷射用之控制信号』所产生之电射辐射之相对强度变化,及造成之资讯图案,图4为产生之辐射之强度变化,读出信号及改正后读出信号图5为使用于根据本发明之一记录装置之具体实例中之改正电路,图6为一分析电路之举例,图7为经由说明指出辐射源之不同强度设定时改正后读出信号之变化,图8为适应电路之一例,图9为具有一侍服轨迹之记录载体。图10为以图解显示三光束追踪系统,图11为三光束追踪系统之福射光束在记录载体上之着陆点。
地址 荷兰