| 发明名称 |
A METHOD TO EVALUATE THE HOMOGENIZATION OF THE PROPERTIES ACROSS THE SILICON SURFACE REGION OF AN OXIDIZED SILICON WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0335288(A3) |
申请公布日期 |
1991.01.09 |
| 申请号 |
EP19890105343 |
申请日期 |
1989.03.25 |
| 申请人 |
SHIN-ETSU HANDOTAI COMPANY, LIMITED |
发明人 |
ITO, TAIZO;ABE, TAKAO |
| 分类号 |
H01L21/316;G01N22/00;H01L21/28;H01L21/324;H01L29/51;(IPC1-7):H01L21/31 |
主分类号 |
H01L21/316 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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