发明名称 Procedure for the investigation of physical properties of thin layers.
摘要 <p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Untersuchung der physikalischen Eigenschaften dünner Schichten. Dies geschieht mit Hilfe polarisierten Lichtes, mit dem die zu untersuchende Schicht bestrahlt wird und das reflektierte Licht bzw. transmittierte Licht auf ein Abbildungssystem gelenkt wird, wobei in der zu untersuchenden Schicht durch die Einstrahlung des polarisierten Lichtes Lichtleitermoden angeregt werden.</p>
申请公布号 EP0403769(A2) 申请公布日期 1990.12.27
申请号 EP19900108208 申请日期 1990.04.30
申请人 BASF AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 HICKEL, WERNER, DR.;KNOLL, WOLFGANG, DR.
分类号 G01N21/21;G01N21/552;G01N21/84 主分类号 G01N21/21
代理机构 代理人
主权项
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