| 摘要 |
<P>L'invention se rapporte à un procédé et à un dispositif de formation par voie pyrolytique d'un revêtement d'oxyde de silicium sur un substrat en verre chaud pendant qu'il traverse une chambre de revêtement par mise en contact, en présence d'oxygène, du substrat avec une matière formatrice de revêtement contenant du silane.</P><P>La matière formatrice de revêtement contenant du silane en phase vapeur et de l'oxygène gazeux sont mélangés intimement, par exemple au moyen d'un rétrécissement induisant de la turbulence 12, avant de pénétrer dans la chambre de revêtement 6 et d'entrer en contact avec le substrat 1.</P><P>Les revêtements d'oxyde de silicium ainsi formés peuvent être utilisés en tant que revêtements uniques sur du verre ou bien en tant qu'une des couches d'un revêtement multi-couches.</P>
|
