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发明名称
FORMING METHOD FOR ALUMINUM DIFFUSED LAYER ON SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号
JPH02301132(A)
申请公布日期
1990.12.13
申请号
JP19890121056
申请日期
1989.05.15
申请人
FUJI ELECTRIC CO LTD
发明人
NAGANO MEGUMI
分类号
H01L21/265
主分类号
H01L21/265
代理机构
代理人
主权项
地址
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