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发明名称
流体施加器(二)
摘要
本创作系揭示一种关于「流体施加器(二)」之新颖设计。从创作图示观之,整体略呈扁方形柱体,且稍具浑圆之外观,予视觉清新、平稳的感受。较靠近上方部位有一道凹陷,至此以上之宽度略小于凹槽以下之宽度,上半部之顶面有一长方形突出物于其上,且上半部亦可加盖保护之。下半部则形成优美之弧线束收,越向下方则越见其向外稍微扩充,表面光滑,不具任何修饰,更添朴实之感。值得注意的是,上述之说明仅系用以辅助说明本创作,而非用以限制该创作内容。
申请公布号
TW147290
申请公布日期
1990.12.01
申请号
TW078308443
申请日期
1989.12.19
申请人
S.C.强生父子公司
发明人
史考特W.丹瑞斯特
分类号
主分类号
代理机构
代理人
恽轶群 台北巿松山区南京东路三段二四八号七楼
主权项
地址
美国
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