| 发明名称 |
METHOD FOR EVALUATION OF TRANSITION REGION OF SILICON EPITAXIAL WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0370919(A3) |
申请公布日期 |
1990.11.28 |
| 申请号 |
EP19890403272 |
申请日期 |
1989.11.27 |
| 申请人 |
SHIN-ETSU ENGINEERING CO LTD. |
发明人 |
MIKI, KATSUHIKO |
| 分类号 |
C30B29/06;C30B25/02;C30B33/00;G02B6/13;H01L21/205;H01L21/66;(IPC1-7):C30B25/02 |
主分类号 |
C30B29/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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