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发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR REMOVING PHOTORESIST FROM SEMICONDUCTOR WAFER AND/OR HYBRID SUBSTRATE
摘要
申请公布号 JPH02288332(A) 申请公布日期 1990.11.28
申请号 JP19890099931 申请日期 1989.04.19
申请人 GARURAMU TECHNOL IND LTD 发明人 IEFUDA NAKUSHIYON
分类号 H01L21/302;H01L21/027;H01L21/30;H01L21/3065 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
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