| 发明名称 |
PLASMA TREATMENT METHOD AND DEVICE THEREFOR |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH02288227(A) |
申请公布日期 |
1990.11.28 |
| 申请号 |
JP19890107610 |
申请日期 |
1989.04.28 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
SANO HIDEZO;HONGO MIKIO;KAMIMURA TAKASHI;MIZUKOSHI KATSURO;TAKAHASHI TAKAHIKO |
| 分类号 |
C23F4/00;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31 |
主分类号 |
C23F4/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
