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发明名称 Exposure method and exposure apparatus
摘要
申请公布号 US4974018(A) 申请公布日期 1990.11.27
申请号 US19880288971 申请日期 1988.12.23
申请人 HITACHI, LTD. 发明人 KOMORIYA, SUSUMU;NISHIZUKA, HIROSHI;NAKAGAWA, SHINYA;MAEJIMA, HISASHI
分类号 H01L21/30;G03F7/20;G03F7/207;H01L21/027 主分类号 H01L21/30
代理机构 代理人
主权项
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