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发明名称 METHOD FOR FORMING PATTERN OF SEMICONDUCTOR PHOTOCATALYST FOR ELECTROLESS PLATING
摘要
申请公布号 JPH02285076(A) 申请公布日期 1990.11.22
申请号 JP19890106468 申请日期 1989.04.26
申请人 HITACHI CHEM CO LTD 发明人 MATSUZAKI ISAO;YOKONO HARUKI
分类号 C23C18/30;H05K3/18 主分类号 C23C18/30
代理机构 代理人
主权项
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