| 发明名称 |
FORMING METHOD OF SEMICONDUCTOR LAYER CONTAINING BORON |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH02283016(A) |
申请公布日期 |
1990.11.20 |
| 申请号 |
JP19890105194 |
申请日期 |
1989.04.25 |
| 申请人 |
SONY CORP |
发明人 |
NOGUCHI TAKASHI;TAJIMA KAZUHIRO |
| 分类号 |
H01L21/265;H01L21/336;H01L29/78;H01L29/786 |
主分类号 |
H01L21/265 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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