| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH02278813(A) |
申请公布日期 |
1990.11.15 |
| 申请号 |
JP19890100560 |
申请日期 |
1989.04.20 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
HAYAKAWA HAJIME;MIZUNO FUMIO;NAKAMURA KAZUMITSU |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/027;H01L21/30 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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