发明名称 METHOD OF FORMING OXIDE FILM
摘要 Procédé de formation d'une pellicule d'oxyde, comprenant au moins une première étape consistant à déposer une pellicule d'oxyde sur la surface d'un substrat par la mise en contact d'un solution d'oxygène et/ou d'une solution de molécules contenant de l'oxygène avec la surface du substrat sur lequel on veut déposer la pellicule d'oxygène, et une deuxième étape consistant à renforcer la liaison de l'oxygène et des atomes constituant la surface du substrat dans la pellicule d'oxyde par traitement thermique de la pellicule d'oxyde à une température supérieure à 20°C dans de l'oxygène en phase gazeuse, les molécules contenant de l'oxygène, ou un gaz inerte seul, ou un mélange de deux ou de plusieurs de ces substances.
申请公布号 WO9013911(A1) 申请公布日期 1990.11.15
申请号 WO1990JP00581 申请日期 1990.05.07
申请人 OHMI, TADAHIRO 发明人 OHMI, TADAHIRO;MORITA, MIZUHO
分类号 H01L21/316 主分类号 H01L21/316
代理机构 代理人
主权项
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