发明名称 PROCESS FOR APPLYING CERAMIC MATERIAL
摘要 <p>Est décrit un procédé pour appliquer un revêtement de matériau céramique sur un substrat par projection au plasma. Le matériau à projeter, lequel est incorporé dans le jet de plasma, renferme un composé chimique dont un constituant est un élément non métallique du groupe N, C, B, ou bien des groupes principaux VI ou VII de la classification périodique, qui se décompose, au moins partiellement, dans une atmosphère inerte avant d'atteindre le point de fusion et qui est présent dans la phase solide à l'état appliqué. Dans le but d'améliorer le procédé de sorte que le composé chimique contenu dans le matériau puisse être appliqué sur le substrat sous forme stoechiométrique, c'est-à-dire non décomposée, et forme un revêtement stable, imperméable et adhérent, l'élément non métallique est incorporé dans le jet de plasma, en plus du matériau à projeter, sous une forme libre, non liée à un élément étranger.</p>
申请公布号 WO9013681(A1) 申请公布日期 1990.11.15
申请号 WO1990EP00674 申请日期 1990.04.26
申请人 DEUTSCHE FORSCHUNGSANSTALT FUER LUFT- UND RAUMFAHRT;W.C. HERAEUS GMBH 发明人 HENNE, RUDOLF;WEBER, WINFRIED;SCHILLER, GUENTER;SCHNURNBERGER, WERNER;KABS, MICHAEL
分类号 C23C4/12 主分类号 C23C4/12
代理机构 代理人
主权项
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