| 发明名称 |
METHOD OF FORMING A FINE RESIST PATTERN IN ELECTRON BEAM OR X-RAY LITHOGRAPHY |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
EP0276717(A3) |
申请公布日期 |
1990.11.14 |
| 申请号 |
EP19880100606 |
申请日期 |
1988.01.18 |
| 申请人 |
FUJITSU LIMITED |
发明人 |
KOBAYASHI, KOICHI C/O FUJITSU LIMITED PAT. DEPT.;TAKAHASHI, YASUSHI C/O FUJITSU LIMITED PAT. DEPT. |
| 分类号 |
H01L21/027;G03C5/08;G03F7/09;G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/02 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
