Photographic structuring process.

摘要

Es wird ein einfaches Verfahren zur Variation der Breite einer Photoresiststruktur vorgeschlagen, bei dem in bekannter Weise hergestellte Photoresiststrukturen mit einem eine Aufweitungskomponente enthaltenden Agens behandelt werden, welches mit funktionellen Gruppen der Photoresiststruktur eine chemische Verknüpfung eingeht und so einen Volumenzuwachs der Photoresiststruktur bedingt. Die Aufweitungsbehandlung wird vorzugsweise mit einer Lösung bei Raumtemperatur durchgeführt, wobei das Ausmaß des Volumenzuwachses der Photoresiststrukturen durch Variation verschiedener Parameter steuerbar ist.