| 摘要 |
Source (22) d'électrons à grande surface pouvant fonctionner de manière continue, stable et indéfinie dans un environnement (20) de vide pauvre. La source comprend une cathode de décharge luminescente, positionnée de manière appropriée par rapport à une anode cible (30) ainsi qu'une grille à mailles fines (26) espacée de la cathode (22) d'une distance inférieure à la longueur moyenne de chemin libre d'électrons quittant ladite cathode (22), ladite grille (26) étant électriquement sollicitée pour commander le courant du faisceau d'électrons sur une large plage avec uniquement de faibles changements de tension de grille. On peut varier de manière continue une tension croissante (29) appliquée à la cathode (22), à partir de seulement quelques centaines de volts jusqu'à 30 KeV ou plus, la source continuant à fonctionner de manière satisfaisante. En outre, ladite grille (26) se compose d'un fil de mailles fines, de dimensions suffisamment réduites pour ne pas être résoluble dans le plan cible (30). Le dispositif met en outre en oeuvre des bobines d'analyse (34) permettant d'atteindre une uniformité additionnelle du faisceau incident au niveau du plan cible (30). On peut combiner l'appareil de base de l'invention avec d'autres caractéristiques, pour une utilisation en lithographie à masque perforé, en mesure de sensibilité de réserve, dans le traitement de décollement, et dans le durcissement de réserve. |
