摘要 |
异位排列苯乙烯基聚合物之制法包含(A)钛化合物及(B)含甲基属有机铝化合物与水之接触生成物之触媒存在下进行。其中接触生成物(B)具高磁场或不超过由质子核磁谐振吸附法测定铝一甲基属(AI-CH3)键之甲基质子信号区域之50%。根据本制法,异位排列苯乙烯基聚合物可有效且经济制成。1987年12月24.日在日本申请专利第62-325391号1988年1月19日在日本申请专利第63-007465号1988年1月19日在日本申请专利第63-007466号1988年2月13日在日本申请专利第63-030048号1988年3月19日在日本申请专利第63-066908号1988年3月19日在日本申请专利第63-066910号 |