| 发明名称 |
PROCESS FOR DEPOSITING TANTALUM OXIDE FILM AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM USED THEREFORE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0388957(A3) |
申请公布日期 |
1990.10.31 |
| 申请号 |
EP19900105440 |
申请日期 |
1990.03.22 |
| 申请人 |
NEC CORPORATION |
发明人 |
KAMIYAMA, SATOSHI;ZENKE, MASANOBU |
| 分类号 |
C23C16/40;H01L21/31;H01L21/316;H01L21/822;H01L27/04;H01L29/92;H01L29/94;(IPC1-7):H01L21/316;C23C16/50 |
主分类号 |
C23C16/40 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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