首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION
摘要
申请公布号 JPH02262660(A) 申请公布日期 1990.10.25
申请号 JP19890084476 申请日期 1989.04.03
申请人 NIPPON ZEON CO LTD 发明人 YAJIMA MIKIO;NAKAMURA KENJI
分类号 G03F7/022;(IPC1-7):G03F7/022 主分类号 G03F7/022
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com