| 发明名称 | 新型压力敏感器件 | ||
| 摘要 | 新型压力敏感器件是一种由高平整度硅膜片制备的力敏传感器，由硅层、介质层和硅膜片组成，其特点是硅膜片由高平整度和均匀厚度的硅膜片构成，它采用异质材料在同一腐蚀液中腐蚀速率的显著差异制成，将异质结界面作为腐蚀自停止界面，使腐蚀后的硅膜片具有高平整度和均匀的厚度，从而保证了压力敏感器件具有较高的精度和较好的一致性。 | ||
| 申请公布号 | CN2064504U | 申请公布日期 | 1990.10.24 |
| 申请号 | CN89205181.7 | 申请日期 | 1989.06.23 |
| 申请人 | 东南大学 | 发明人 | 吕世骥 |
| 分类号 | G01L1/14;H01L49/00 | 主分类号 | G01L1/14 |
| 代理机构 | 东南大学专利事务所 | 代理人 | 楼高潮;沈廉 |
| 主权项 | 1、一种由高平整度硅膜片制备的压力敏感器件，由硅层、介质层和硅膜片组成，其特征在于硅膜片由高平整度和厚度均匀的硅膜片构成，其平整度可达50<img file="892051817_IMG2.GIF" wi="47" he="90" />，厚度均匀性可达1μm。 | ||
| 地址 | 210018江苏省南京市四牌楼2号 | ||