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发明名称 PRODUCTION OF TARGET FOR SPUTTERING
摘要
申请公布号 JPH02259068(A) 申请公布日期 1990.10.19
申请号 JP19890081088 申请日期 1989.03.31
申请人 SEIKO EPSON CORP 发明人 SHIMOKAWATO SATOSHI;AOYAMA AKIRA;YAZAKI CHIKAO;YAMAGISHI TOSHIHIKO
分类号 C23C14/34 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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