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发明名称 Cooling of a plasma electrode system for an etching apparatus
摘要
申请公布号 US4963713(A) 申请公布日期 1990.10.16
申请号 US19890298892 申请日期 1989.01.19
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 HORIUCHI, TAKAO;ARAI, IZUMI;TAHARA, YOSHIFUMI
分类号 H01J37/32;H01L21/00 主分类号 H01J37/32
代理机构 代理人
主权项
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