| 主权项 |
1﹒包括一柜12,一分离室14及一贮放室16之装置,用以处理一种包含较稀液态成分与较浓液态成分之流体混合物,该成分等实质上不能混杂且其中之较稀成分系一种污染物,装置之特点为:柜设有预定高度之一堰18,堰分隔该柜与通至第一分离室14之第一溢流通路;第一分离室之上部份缩聚成一孔28通至第一提升管30,该第一提升管具有第一流体出口通路32及第一防止气塞通气孔24该第一流体出口通路所处之高度低于该堰之上方边缘35,该第一防止气塞通气孔34所处之高度高于第一流体出口通路32;及一第一贮放室16内具有一室分隔堰44,堰具有一上层46其所处之高度略低于该第一流体出口通路32该室分隔堰将该第一贮放室分成第一分室48及第二分室50;其中,该第一分离室14位于该第一溢通路20与该第一分室之间并与二者适于流通流体;及其中该装置底部之一部份,该装置之每一侧边之一部份及分隔该第一分离室与该第一贮放室之一壁之下端构成第一伏流通路62,该第一伏流通路之断面面积充分大于该第一溢流通路之一出口36之断面面积,故当流体在该装置中发生涌溢时,可避免压力升高。2﹒根据上述请求专利部份第1项之装置,其中进一步包括第二分离室74,该室之上部缩聚成一孔通至第二提升管94,第二提升管具有第二流体出口通路96及第二防止气塞通气孔98,该第二流体出口通路所处之高度低于该室分隔堰102之该上层100,该第二防止气塞通气孔所处之高度高于该第二流体出口通路,及第二贮放室90,其中具有一室分隔板210,室分隔板具有一上层112其所处之高度略低于该第二流体出口通路96,该室分隔板将该第二贮放室分成第一分室及第二分室117;其中,该第二分离室74该位于第一贮放室之该第﹒二分室82与第二贮放室之第二分室﹒116之间并与二者可通流体;该第二分室系作为第二溢流通路用,及该第二溢流通路126之出口低于第一溢流通路84之出口;及其中,该装置底部之一部份,该装置之每一侧边之一部份及分隔该第二分离室与该第二贮放室之一壁之下端构成第二伏流通路,﹒该第二伏流通路130﹒之断面面积充分大于该第二溢流通路之出口84之断面面积,故当流体在装置中发生涌溢时;可避免压力升高。3﹒根据上述请求专利部份第1项之装置,其中进一步包括适于将该第二分室中之经处理之流体送回该柜之流体送回装置,该流体送回装置位于适于与该第二分室及该柜可通流体之一管上,及包括一位于该流体送装置与该柜间之该管上之过滤装置。4﹒根据上述请求专利部份第1项之装置,其中,该第一贮放室具有防止该室中之经处流体进入其周围空气中之损失之一顶部,及其中,该柜之该堰之上方部份斜向该第一溢流通路。5﹒根据上述请求专利部份第2项之装置,其中进一步包括适于将该第二分室中之经处理流体送回该柜之流体送回装置,该流体送回装置位于与该第二分室及该柜可通流体之一管上。 |
