| 摘要 |
<P>L'invention concerne un dispositif de dépôt sous vide de films sur des supports.</P><P>Selon l'invention, il comporte une chambre à vide de travail 1 avec un porte-supports 2 et des ensembles 3 de pulvérisation par magnétron de matériaux, une chambre 4 d'évacuation munie d'une pompe à magnétron 5, une source de gaz 12, une pompe à vide primaire 22, une chambre auxiliaire d'évacuation 8 avec une pompe à magnétron 9, une source de gaz 13 et un système de tuyauteries 14, 18, 23, 27 et 28.</P><P>L'invention s'applique notamment au dépôt de films de composition compliquée sur des pièces, par pulvérisation, à partir d'un plasma ionique.</P>
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