薄膜陶瓷强化金属表面技术

摘要

本发明公开了一种BN-SiN薄膜陶瓷强化金属表面的技术。用低温P-CVD法，靠等离体能量，在不管是基体材质不同、形状大小或复杂与否的金属表面一次合成BN-SiN薄膜陶瓷并完成镀覆。其工艺简单，薄膜生长温度低，省能，易控制，且不受被加工件材质、形状和镀覆位置的限制。BN-SiN薄膜陶瓷具有超硬度、耐高温、抗腐蚀、附着力强、导热性好、光洁度高等特点。

主权项

1、一种制造薄膜陶瓷强化金属表面技术，其特征是：(1)用低温等离子体化学气相淀积(P-CVD)法一次合成出BN-SiN复合薄膜陶瓷；(2)其工艺过程是将金属加工件(5)放入反应室(1)中的电极板(6)上，反应室(1)经过抽真空，通入氮(N2)或氩(Ar)、硅烷(SiH4)、硼烷(B2H6)三种气体，加热加工件(5)，高频电源(8)使上下电极极板(4和6)对淀积空间进行辉光放电，预处理等步骤。一次合成出BN-SiN复合薄膜陶瓷并同时完成在金属加工件(5)表面的镀复。