| 发明名称 |
WERKWIJZE VOOR HET VERVAARDIGEN VAN MASKERS VOOR ROENTGENLITHOGRAFIE. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
NL186201(C) |
申请公布日期 |
1990.10.01 |
| 申请号 |
NL19770006552 |
申请日期 |
1977.06.14 |
| 申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT TE BERLIJN EN MUENCHEN, BONDSREPUBLIEK DUITSLAND. |
发明人 |
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| 分类号 |
H01L21/027;G03F1/22;(IPC1-7):G03F1/14 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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