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发明名称 VACUUM HEAT-TREATMENT APPARATUS FOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 JPH02238616(A) 申请公布日期 1990.09.20
申请号 JP19890059413 申请日期 1989.03.10
申请人 TOKYO ELECTRON LTD;TERU KYUSHU KK 发明人 HIRAKAWA OSAMU;KIMURA YOSHIO;AKUMOTO MASAMI;ANAI NORIYUKI;USHIJIMA MITSURU
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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