发明名称 |
邻二氮杂 衍生物其制法及其除草组成物 |
摘要 |
本发明系有关邻二氮杂衍生物如下式(Ⅰ)所示□其中x为-OH,-O-M+,-OR1或 CC,式中M+为一种硷金属阳离子,硷土金属阳离子,或CC其中R4,R5及R6可为相同或相异,和各为氢原子,C1-C6烷基,C3-C4烯基,C3-C炔基,C3-C8环烷基,苯甲基或苯基;R1为C1-C4烷基;和 R2及R3可为相同为相异,和各为氢原子,C1-C4烷基,苯基,其中至多其三个氢原子可被相同或相异C1-C2烷基取代;Y为氟原子,氯原子,溴原子,三卤甲基,C1-C6烷氧基或C1-C2烷基,A为C1-C3多卤烷基;和A’为氢原子,氟原子,氯原子或溴原子,其制法,和除草剂组成物含有此为有效成份,使其控制不需要的杂草,和使用其当除草剂。1986年12.月25.日在日本申请专利第61-309981号 |
申请公布号 |
TW141526 |
申请公布日期 |
1990.09.11 |
申请号 |
TW076107693 |
申请日期 |
1987.12.15 |
申请人 |
住友化学工业股份有限公司 日本大阪巿中央区北?四丁目五番三十三号 |
发明人 |
水户信彰;水谷理人;城下正男;奥田浩喜;屧正治 |
分类号 |
A01N43/58;C07D237/28 |
主分类号 |
A01N43/58 |
代理机构 |
|
代理人 |
何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼 |
主权项 |
第三图系本创作喷枪之右视图。 第四图系本创作喷枪之左视图。 第五图系本创作喷枪之顶视图。 第六图系本创作喷枪之底视图。 第七图系本创作喷枪之背视图。 |
地址 |
日本大阪巿中央区北四丁目五番三十三号 |