发明名称 供有机金属前驱物之液体输送化学蒸气沈积用之溶剂组成物及供液体输送化学蒸气沈积用之前驱组成物
摘要 一种供有机金属前驱物之液体输送化学蒸气沈积用之溶剂组成物,包括比例为A:B:C之溶剂种类A、B及C之混合物,其中A系自约3至约7份体积,B系自约2至约6份体积,及C系存在直至约3份体积,其中此等体积份数系以混合物之总体积计,及其中A为C6-C8烷烃,B为C8- C12烷烃,A及B彼此不同,及C系选自包括乙二醇二甲醚基溶剂(乙二醇二甲醚、二乙二醇二甲醚、四乙二醇二甲醚等等)及聚胺。包含体积比大约为5:4:1之辛烷、癸烷及聚胺之特殊溶剂组成物特别可有效用于形成SrBi2Ta2O9薄膜。
申请公布号 TW473539 申请公布日期 2002.01.21
申请号 TW087119256 申请日期 1998.11.21
申请人 尖端科技材料公司 发明人 汤玛斯.H.鲍姆;高塔姆.布汉达里
分类号 C09K3/00;C23C16/40 主分类号 C09K3/00
代理机构 代理人 赖经臣 台北巿南京东路三段三四六号一一一二室
主权项 1.一种供有机金属前驱物之液体输送化学蒸气沈 积用之溶剂组成物,包括比例为A:B:C之溶剂种类A、 B及C之混合物,其中A系自3至7份体积,B系自2至6份体 积,及C系存在直至3份体积,其中此导体积份数系以 混合物之总体积计,及其中A为C6-C8烷烃,B为C8-C12烷 烃,A及B彼此不同,及C系选自包括乙二醇二甲醚基 溶剂及聚胺。2.如申请专利范围第1项之组成物,其 中,该溶剂种类C系选自包括乙二醇二甲醚、二乙 二醇二甲醚、及四乙二醇二甲醚之乙二醇二甲醚 基溶剂。3.如申请专利范围第1项之组成物,其中, 该溶剂种类C系选自包括N,N,N',N'-四甲基乙二胺、N, N,N',N",N"-五甲基二伸乙三胺、及N,N,N',N",N'",N"'-六 甲基三伸乙四胺之聚胺。4.如申请专利范围第1项 之组成物,其中包括比例为辛烷:癸烷:聚胺之辛烷 、癸烷及聚胺,其中辛烷系自3至7份体积,癸烷系自 2至6份体积,及聚胺系存在直至3份体积,其中该体 积份数系以溶剂组成物之总体积计。5.如申请专 利范围第1项之组成物,其中,A:B:C以体积计为5:4:1。 6.如申请专利范围第1项之组成物,其中,该溶剂种 类C包括N,N,N',N",N"-五甲基二伸乙三胺。7.如申请专 利范围第1项之组成物,其中,该溶剂种类C包括N,N,N' ,N",N'",N"'-六甲基三伸乙四胺。8.如申请专利范围 第1项之组成物,其中,该溶剂种类C包括N,N,N',N'-四 甲基乙二胺。9.如申请专利范围第1项之组成物,其 中,该组成物包括各别体积比为5:4:1之辛烷、癸烷 及聚胺。10.一种供液体输送化学蒸气沈积用之前 驱组成物,包括在溶剂组成物中之金属-二酮盐 前驱物,该溶剂组成物包括比例为A:B:C之溶剂种类A 、B及C之混合物,其中A系自3至7份体积,B系自2至6份 体积,及C系存在直至3份体积,其中该体积份数系以 混合物之总体积计,及其中A为C6-C8烷烃,B为C8-C12烷 烃,A及B彼此不同,及C系选自包括乙二醇二甲醚基 溶剂及聚胺。11.如申请专利范围第10项之前驱组 成物,其中,该溶剂种类C系选自包括乙二醇二甲醚 、二乙二醇二甲醚、及四乙二醇二甲醚之乙二醇 二甲醚基溶剂。12.如申请专利范围第10项之前驱 组成物,其中,该溶剂种类C系选自包括N,N,N',N'-四甲 基乙二胺、N,N,N',N",N"-五甲基二伸乙三胺、及N,N,N' ,N",N'",N"'-六甲基三伸乙四胺之聚胺。13.如申请专 利范围第10项之前驱组成物,其中包括比例为辛烷: 癸烷:聚胺之辛烷、癸烷及聚胺之溶剂混合物,其 中辛烷系自3至7份体积,癸烷系自2至6份体积,及聚 胺系存在直至3份体积,其中该体积份数系以溶剂 混合物之总体积计。14.如申请专利范围第10项之 前驱组成物,其中,A:B:C以体积计为5:4:1。15.如申请 专利范围第10项之前驱组成物,其中,该溶剂种类C 包括N,N,N',N",N"-五甲基二伸乙三胺。16.如申请专利 范围第10项之前驱组成物,其中,该溶剂种类C包括N, N,N',N",N'",N"'-六甲基三伸乙四胺。17.如申请专利范 围第10项之前驱组成物,其中,该溶剂种类C包括N,N,N ',N'-四甲基乙二胺。18.如申请专利范围第10项之前 驱组成物,其中,该有机金属前驱物包括金属-二 酮盐前驱物。19.如申请专利范围第10项之前驱组 成物,其中,该有机金属前驱物包括第II族金属。20. 如申请专利范围第10项之前驱组成物,其中,该有机 金属前驱物包含选自包括Bi、Ca、Cu、Sr、Ba、Pb、 Na、Fe、Al、Sc、Y、Ti、Nb、Ta、W、Mo及镧系金属之 金属。21.如申请专利范围第10项之前驱组成物,其 中,该有机金属前驱物包括锶、铋及钽之-二酮 盐错合物。22.如申请专利范围第10项之前驱组成 物,其中,该有机金属前驱物包括Sr(thd)2(五甲基二 伸乙三胺)、Bi(thd)3及Ta(OiPr)4(thd),其中thd=2,2,6,6-四 甲基-3,5-庚二酮根。23.如申请专利范围第10项之前 驱组成物,其中,该有机金属前驱物包括-二酮根 金属错合物,其中该-二酮根配位子系选自包括: 2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮根; 1,1,1-三氟-2,4-戊二酮根; 1,1,1,5,5,5-六氟-2,4-戊二酮根; 6,6,7,7,8,8,8-七氟-2,2-二甲基-3,5-辛二酮根; 2,2,7-三甲基-3,5-辛二酮根; 1,1,1,5,5,6,6,7,7,7-十氟-2,4-庚二酮根;及 1,1,1-三氟-6-甲基-2,4-庚二酮根。图式简单说明: 图1系利用锶、铋及钽之-二酮盐前驱物在四氢 喃:异丙醇:聚胺之8:2:1溶剂组成物中,用于在180 ℃下蒸发前驱物溶液及沈积钽酸锶铋之液体输送 化学蒸气沈积系统之以托耳(torr)为单位之上游压 力成以分钟为单位之时间之函数图。 图2系利用锶、铋及钽之-二酮盐前驱物,在包含5 :4:1辛烷:癸烷:聚胺之根据本发明之溶剂组成物中, 用于在前驱物溶液于180℃下蒸发后使钽酸锶钽沈 积之液体输送化学蒸气沈积系统之以托耳为单位 之上游压力成以分钟为单位之时间之函数图。
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