发明名称 RESIDNAL REMDUAL METHOD MAKING USE OF PLASMA SCATTERING PHENOMENON
摘要
申请公布号 JPH02219227(A) 申请公布日期 1990.08.31
申请号 JP19890332526 申请日期 1989.12.20
申请人 GENDAI DENSHI SANGYO KK 发明人 KIN SOUEKI;BOKU KEIJIYUN;BOKU TENKIYUU;BOKU KAISEI;SHII CHIYUN KIMU
分类号 H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/3213 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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